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帕克 NX-Mask 掩模修补系统
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Park原子力显微镜掩模修补系统Park NX-Mask
缺陷数量并且精准定位缺陷位置,还能获悉每种颗粒和缺陷的各类信息。 修复后,Park NX-Mask采用AFM真正非接触式技术进行修复后的验证,生成纳米级3D形貌和其他关键性的计量数据,如表面粗糙度
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进口扫描探针显微镜Park NX-Mask Park原子力显微镜掩模修补系统
纳米机械 AFM 技术,以绝对安全可靠的方式发现并去除外来颗粒、修正复杂的图案缺陷。与传统的光罩修复系统相比,Park NX-Mask能在不造成任何损坏或扰乱光罩表面的情况下精准执行修复。安全性
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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默克Milli-Q Direct 水纯化系统
高性价比的一体化系统为您带来一机两水的极致体验科研用户更高的需求: 价格适当且能够直接从自来水制备纯水和超纯水的系统: - 符合不断提高的水质标准 - 方便易用
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默克 Millipore® MVP ICON™ 环境监控系统
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默克Millipore Steritest™ Symbio 智能无菌测试系统
易于使用的独特设计·降低了泵的高度,使其更方便层流台内操作。·Steritest™ Symbio泵结构紧凑,无需占用隔离器内的工作空间,提高了隔离器的装载能力。·可适用于垂直气流和水平气流。可靠·自动
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默克Milli-Q Direct 水纯化系统
高性价比的一体化系统为您带来一机两水的极致体验科研用户更高的需求: 价格适当且能够直接从自来水制备纯水和超纯水的系统: - 符合不断提高的水质标准 - 方便易用
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Park原子力显微镜扫描探针显微镜进口掩模修补系统
可实现检测扫描,到修复,到验证的功能- 经济型高品质低成本 用于定位缺陷和修复后验证的非接触原子力显微镜技术首先,Park NX-Mask 利用其独有的非接触式 AFM 技术进行全方位
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